ProSys invente, conçoit & produit des systèmes mégasoniques pour les marchés évolués des technologies des procédés humides.
Avec les systèmes et la technologie mégasoniques ProSys, vous pourrez rapidement nettoyer les produits sensibles à la contamination, en toute sécurité, efficacement et améliorer le PRE – Augmenter la cinétique des procédés qui dépendent de réactions chimiques – Capturer des données en temps réel qui identifient les opportunités d’amélioration des procédés et prédisent les maintenances préventives – Réduire le temps de cycle du procédé pour le nettoyage et la cinétique de réaction.
Le nettoyage mégasonique peut être utilisé pour :
Qu’est ce que la Technologie Mégasonique ?
La technologie et les systèmes Mégasonique ProSys permettent de nettoyer rapidement et avec une efficacité supérieure à 99%, les impuretés se trouvant sur des produits sensibles.
Les sondes mégasoniques ProSys peuvent être adaptées sur des équipements de process unitaire ou sur des Wet Benches. Les solutions proposées par notre fournisseur B4C Cleaning peuvent incorporer les sondes mégasoniques ProSys.
Particulièrement adaptée au nettoyage des cavités dans les MEM’s, cette technologie peut aussi être utilisée pour des contaminations résistant aux process conventionnels. Le nettoyage mégasonique utilise l’effet piézo-électrique pour enlever les particules submicroniques des substrats.
Un cristal piézo-électrique est excité à haute fréquence créant ainsi une vibration. Cette vibration génère une onde acoustique qui est transmise via un fluide de nettoyage, produisant ainsi une cavitation contrôlée. Quand l’onde passe sur la surface de l’objet, elle détache les particules du matériel en cours de traitement.
La cavitation créée un courant emportant les impuretés et évitant qu’elles ne se collent à nouveau sur le matériau en cours de nettoyage.
Les particularités et les avantages des transducteurs ProSys
Le mode de fabrication des transducteurs, faisant l’objet de nombreux brevets, assure aux équipements PROSYS une qualité de nettoyage, une durée de vie et une fiabilité inégalées.
MEGPIE©, Wafer Unitaire
Le MegPie© permet le traitement de wafers unitaires sur tout type d’équipement.
La sonde mégasonique est positionnée sur un bras possédant une possibilité de réglage en Z .
Hormis le fait de pouvoir positionner le wafer sur le chuck, il n’est pas nécessaire d’avoir un mouvement latéral du bras support de sonde.
De par sa forme « pelle à tarte », le MegPie© aura une puissance distribuée uniforme aussi bien au centre du wafer qu’à sa périphérie.
Les sondes mégatonniques PROSYS peuvent traiter des diamètres de tranche de silicium jusqu’à 450mm.
Le liquide de nettoyage injecté entre la surface à nettoyer et la sole méga-sonique permet le transfert des mega sons . Cela a pour effet de réduire les quantités de produit utilisé tout en fournissant une souplesse lors de l’utilisation de l’équipement pour différents process.
MEG-BAR, En ligne sur convoyeur
Principalement orientée pour le nettoyage de cellules photovoltaïques et de pièces mécaniques, la solution « en ligne » permet un nettoyage de tout type de pièces placées sur un convoyeur.
La sonde mégasonique ProSys peut alors être immergée ou en survol au dessus des éléments à nettoyer
Bains, Lots de Wafers en cassette
Dans cette solution, les soles mégasoniques sont positionnées en fond de cuve, les pièces ou substrats à nettoyer sont plongés verticalement dans le liquide de nettoyage.
La forme et la dimension des soles mégasoniques peuvent être adaptées à l’équipement sur lequel elles vont être intégrées.
L’intégration dans un WetBench manuel ou automatique est rendue aisée par le fait qu’il n’est pas nécessaire de prévoir un refroidissement par eau.
Le matériau de la sole mégasonique peut être adapté aux produits chimiques utilises.
Peritest est le représentant de ProSys en France
