MACHINES PROCÉDÉS HUMIDES – B4C Cleaning

B4C Cleaning conçoit et réalise des équipements de nettoyage (simples et doubles faces) pour l’industrie Micro-électronique, Semi-conducteur, optiques, etc..

Société Française utilisant la connaissance de fournisseurs Français et dédiée aux marchés français et Européen, B4C a été fondée en 2018 par Charles CLAUSS (35 ans d’expérience dans le monde du semi-conducteur). Devenu un Expert en process de nettoyage, et avec l’aide de techniciens passionnés comme lui, il a pensé, développé et fabriqué 2 types de machines « Wet Process », commercialisés depuis quelques années maintenant.

LEUR MARCHÉS : Plusieurs secteurs

• Le Semiconducteur :
  • Nettoyage de wafers de 2” à 12”
  • Nettoyage de masques de 5” to 9”
  • Développement et retrait de résines
  • Procédé « Lift off »
  • Nettoyage de boîtiers
• Le Militaire : Nettoyage de lentilles et pièces
• Le Médical
• L’Optique : Applications sur des petites pièces en verre

L’ÉQUIPE :

• 1 Expert en procédés de nettoyage / Conception d’équipements
• 1 Directeur commercial / Mise en place d’un réseau « worldwide »
• 1 Développeur ingénieur CAO / Dessins et documentation d’équipement
• 1 Ingénieur en mécanique / Fabricant de pièces détachées
• 1 Expert en nettoyage Mégasonique (et tous types de nettoyage)
• 1 Spécialiste en développement / Fabrication d’équipement pour procédés chimiques

1/ Horizontale SF 300XH Semi-Automatique Simple Face

• Dédiée au nettoyage simple face de substrats (convient aux procédés en wafer unitaire)
• Chambre prévue pour des substrats jusqu’à  350mm.

2/ Verticale DFC450XV Semi-Automatique Double Face

• Dédiée au nettoyage double face de substrats (peut aussi être utilisée pour le simple face)
• Chambre prévue pour des substrats jusqu’à 450mm.

SFC 300XH

• Élimination des résines
• Décapage
• Lift off
• Nettoyage Via & TSV
• Nettoyage Post-CMP
• Nettoyage Pre-Bond
• Nettoyage Post Dicing
• Nettoyage de particules à la brosse avec OU sans chimie
• Nettoyage ou rinçage haute pression

DFC 450XV

• Nettoyage de particules à la brosse avec OU sans chimie
• Nettoyage ou rinçage haute pression

• Fabrication Européenne
• • Système complet sécurisé (vibration sensor optionnel) : Certifié NF & CE
  • Facile d’utilisation : IHM ergonomique
  • Logiciel entièrement programmable
  • Facilité de faire des essais sur votre application
  • Service client local & réactif

• Conception pensée pour une maintenance facile
  • Accès maintenance par le devant de l’équipement
  • Remplacement facile de la chambre entière
  • Amélioration performance de la machine possible, avec pose de différents bras (Brosse, Mégason, haute pression,
    diffusion…)

• Eco-friendly
  • Utilisation de chimies douces et/ou diluées, combinées à un process basse température performant
  • Remplacement d’utilisation de chimies lourdes
  • Consommation contrôlée des différentes fournitures (Eau DI, N2)
  • Utilisation de chimies de conception durable

Pour vous aider à améliorer votre process actuel : en basculant d’un système de simple wafer et/ou à un upgrade de la chimie utilisée.

Pour développer votre propre solution : en vous aidant à réaliser le développement entier du process grâce à leur demo tool et leur ingénieur CAD.

Peritest est le représentant de B4C Cleaning pour toute l’Europe